Das Verfahren beruht auf einer außenstromlosen Reduktion von Nickelionen zu metallischem Nickel. Dabei entsteht eine Nickel-Phosphor-Legierungsschicht. Je nach Phosphorgehalt spricht man von Midphos- (6–9 % P) oder Hochphos-Schichten (> 10 % P). Im Gegensatz zu elektrolytischen Prozessen wird unabhängig von der Teilegeometrie eine überall gleichmäßige Schichtdicke erzielt – einen Knocheneffekt an den Kanten gibt es nicht. Nahezu alle gängigen Werkstoffe können beschichtet werden.
Nickel-Phosphor-Überzüge sind homogen und porenfrei, bei 6–9 % Phosphor mikrokristallin, ab ca. 10 % Phosphor röntgenamorph. Die Härte im abgeschiedenen Zustand liegt bei 500–580 HV 0,1. Durch eine thermische Nachbehandlung lässt sich das Verschleißverhalten um den Faktor 3 verbessern, auf Werte bis zu 1000 HV 0,1 – allerdings zulasten des Korrosionsverhaltens, da ab 200 °C eine Rekristallisation eintritt.
Empfohlene Schichtdicken: 5–10 µm bei geringer, 10–25 µm bei mäßiger, 25–50 µm bei starker und über 50 µm bei sehr starker Korrosionsbeanspruchung. Für optische Funktionsflächen bieten wir zusätzlich Chemisch Nickel Optic an.
Chemisch Nickel Optic – Sonderverfahren für die UP-Bearbeitung: Schichtdicke bis 500 µm, Bauteilgröße bis 1600 mm.
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